TMC真空光學(xué)平臺
TMC真空光學(xué)平臺,與它們的真空兼容性密切相關(guān)的事實(shí)是,這些頂部只釋放極少量的氣體,從而確保不會(huì )損壞光學(xué)元件(因為如果頂部釋放太多的污染物導致?lián)p壞光學(xué)元件,那么達到目標真空水平也無(wú)多大用處)。拍瓦激光應用的頂部被證明可以使測試光學(xué)元件的光學(xué)傳輸損失小于0.1%。
更新時(shí)間:2024-05-23
廠(chǎng)商性質(zhì):生產(chǎn)廠(chǎng)家
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